立法院院會今日審查通過專利法部分條文修正草案，放寬優惠期制度相關要件，
包括將發明及新型專利之優惠期期間，自本國申請案申請日前6個月放寬為12個月，
並將發明、新型及設計專利得適用優惠期之公開態樣，放寬為凡出於申請人本意或非本意的公開皆得適用，
同時刪除須於申請時聲明主張優惠期之程序要件。
此次修法鬆綁優惠期相關要件，擴大為申請前公開之人獲得專利保護之可能性，
有利於創新及技術的流通。新修正條文經總統令公布後，其施行日期將由行政院另行訂定。
三讀通過專利法部分修正條文對照表如附檔，正式條文以總統令公布者為準。
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